含有硅氧烷化合物和苯酚化合物的组合物
授权
摘要
本发明提供一种组合物，其包含具有－HSiRO－的硅氧烷化合物，以及作为稳定剂成分的至少一种用下述通式(1)或(2)表示的苯酚化合物，其中，R表示氢原子、碳原子数为1～8的烃基、碳原子数为1～8的烷氧基或苯氧基；相对于100质量份的所述硅氧烷化合物，所述稳定剂成分为0.0001～1质量份；在通式(1)和(2)中，a和b表示0～4的整数，m表示0或1，p和q表示1或2，R1～R4表示碳原子数为1～4的烷基，X1和X2表示碳原子数为1～4的烷基、碳原子数为1～4的烷氧基或卤素基，Y表示碳原子数为1～4的烷二基，R1～R4、X1、X2和Y在分子内存在多个时可以相同也可以不同。
基本信息
专利标题 ：
含有硅氧烷化合物和苯酚化合物的组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1981069A
申请号 ：
CN200580022724.5
公开（公告）日 ：
2007-06-13
申请日 ：
2005-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小笠原国郎小野泽和久佐藤宏树东野贵志
申请人 ：
株式会社艾迪科
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈建全
优先权 ：
CN200580022724.5
主分类号 ：
C23C16/42
IPC分类号 ：
C23C16/42 C07F7/21
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/30
沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物
C23C16/42
硅化物
法律状态
2010-09-08 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2007-06-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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