构图和膜形成方法、电致发光器件及其制造方法以及电致发光显...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
公开了一种构图方法，其包括构图步骤，所述构图步骤包括曝光基底，所述基底包括：(a)衬底；(b)光催化剂层，形成在部分所述衬底上并且包含光催化剂；以及(c)构图层，形成在包括所述衬底(a)和所述光催化剂层(b)的基底的上表面上，所述构图层通过所述光催化剂的作用可分解；由此分解并且去除在所述光催化剂层(c)上的所述构图层，以暴露所述光催化剂层的至少部分上表面。根据该方法，提供高分辨率并且低成本的EL器件和电致发光显示装置。
基本信息
专利标题 ：
构图和膜形成方法、电致发光器件及其制造方法以及电致发光显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101027608A
申请号 ：
CN200580032293.0
公开（公告）日 ：
2007-08-29
申请日 ：
2005-09-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
福地隆
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
杨晓光
优先权 ：
CN200580032293.0
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 H01L51/40
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2010-08-25 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101006992270
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利申请号 : 2005800322930
公开日 : 20070829
号牌文件序号 : 101006992270
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利申请号 : 2005800322930
公开日 : 20070829
2007-10-24 ：
实质审查的生效
2007-08-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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