跟踪并标记具有缺陷的试样
授权
摘要
一种方法和系统(10)，其提高了在靶材的激光加工中加工的试样产量，其中所述靶材包括共衬底上形成的多个试样。优选实施例实现了一个能在激光加工系统中存储一列有缺陷试样的特征，所述有缺陷的试样在某种程度上在激光加工期间已经受到了错误的影响。一旦已经完全加工所述共衬底，系统警示操作员不适当加工试样的数量，并给予操作员运行软件程序(12)的机会，在一个优选实施例中，该软件程序使用激光在每个没有适当加工的试样的顶面上划上标记。
基本信息
专利标题 ：
跟踪并标记具有缺陷的试样
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101076805A
申请号 ：
CN200580039094.2
公开（公告）日 ：
2007-11-21
申请日 ：
2005-11-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·泰勒R·W·科尔比J·W·莱昂那德L·M·多森D·A·瓦特C·E·希尔L·H·坎贝尔
申请人 ：
电子科学工业公司
申请人地址 ：
美国俄勒冈州
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵蓉民
优先权 ：
CN200580039094.2
主分类号 ：
G06F19/00
IPC分类号 ：
G06F19/00
相关图片
法律状态
2010-10-27 ：
授权
2008-01-16 ：
实质审查的生效
2007-11-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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