包括可置换可堆叠盘的固态前驱体传输系统
专利权的终止
摘要
本发明描述了用于与高传导率蒸汽传输系统相耦合的多盘固态前驱体蒸发系统(50、150、300、300’)的可置换前驱体盘，其用于通过增大固态前驱体的暴露表面积来增大沉积速率。多盘固态前驱体蒸发系统(50、150、300、300’)被配置为耦合到薄膜沉积系统(1、100)的处理室(10、110)，并且包括基座盘(330)以及一个或多个可堆叠上部盘(340)。每个盘(330、340)被配置为支撑并保持例如固态粉末形式或固态片形式的膜前驱体(350)。另外，每个盘(330、340)被配置为在加热膜前驱体(350)的同时提供膜前驱体(350)上方的载气的高传导率流动。例如，载气在膜前驱体(350)上方向内流动，并且垂直地向上经过可堆叠盘(370、370’)内部的流动通道(318)，并经过固态前驱体蒸发系统(50、150、300、300’)中的出口(322)。
基本信息
专利标题 ：
包括可置换可堆叠盘的固态前驱体传输系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101065515A
申请号 ：
CN200580040912.0
公开（公告）日 ：
2007-10-31
申请日 ：
2005-10-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
铃木健二以马利·盖德帝格利特·J·莱乌辛克原正道黑岩大祐
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李剑
优先权 ：
CN200580040912.0
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2016-11-23 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101689563092
IPC(主分类) : C23C 16/448
专利号 : ZL2005800409120
申请日 : 20051003
授权公告日 : 20100526
终止日期 : 20151003
号牌文件序号 : 101689563092
IPC(主分类) : C23C 16/448
专利号 : ZL2005800409120
申请日 : 20051003
授权公告日 : 20100526
终止日期 : 20151003
2010-05-26 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-10-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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