多点检验设备
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及通过由隐失波生成的多个样本光点(501)检验样本材料的方法和设备。通过多点发生器，例如，多模干涉仪(106)生成源光点(510)阵列，并通过(微)透镜(202，203)或通过Talbot效应将其映射到样本层(302)内的样本光点(501)上。对由所述源光点(510)构成的输入光(504)整形，从而使所有输入光都在透明载体板(301)和样本层(302)之间的界面处受到全内反射。因而，所述样本光点(501)仅由隐失波构成，并被限制在有限体积。在优选应用中，采用CCD阵列(401)通过空间分解探测在样本光点(501)中激励的荧光。
基本信息
专利标题 ：
多点检验设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101072996A
申请号 ：
CN200580041982.8
公开（公告）日 ：
2007-11-14
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
D·J·W·克隆德M·范赫佩恩M·巴利斯特雷里C·利登巴姆M·普林斯R·温贝格尔－弗里德尔R·库尔特
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
王英
优先权 ：
CN200580041982.8
主分类号 ：
G01N21/55
IPC分类号 ：
G01N21/55 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/55
镜面反射率
法律状态
2010-03-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2007-11-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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