用于清洗离子注入机元件的新方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种用于清洗来自用在微电子器件制造中的离子注入机的真空室元件的、和束流线(beamline)元件的残留物的方法和装置。为了有效地移除残留物，在充分条件下使这些元件与气相活性卤化物的组分充分接触一段时间以至少部分移除残留物。选取气相活性卤化物的组分以有选择地与残留物发生反应，而不与真空室的离子源区域的元件进行反应。
基本信息
专利标题 ：
用于清洗离子注入机元件的新方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101437629A
申请号 ：
CN200580044390.1
公开（公告）日 ：
2009-05-20
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小弗朗克·迪梅奥詹姆斯·迪茨W·卡尔·奥兰德罗伯特·凯姆史蒂文·E·毕晓普杰弗里·W·纽纳乔斯·I·阿尔诺
申请人 ：
高级技术材料公司
申请人地址 ：
美国康涅狄格州
代理机构 ：
北京康信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
余 刚
优先权 ：
CN200580044390.1
主分类号 ：
B08B6/00
IPC分类号 ：
B08B6/00 B08B9/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B6/00
用静电法清洁
法律状态
2014-01-08 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101684903519
IPC(主分类) : B08B 6/00
专利申请号 : 2005800443901
申请公布日 : 20090520
号牌文件序号 : 101684903519
IPC(主分类) : B08B 6/00
专利申请号 : 2005800443901
申请公布日 : 20090520
2009-07-15 ：
实质审查的生效
2009-05-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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