相对于参考测量和绘制表面的系统和方法
授权
摘要
一种用于测量一个表面相对于一个基准参考的位移,以及用于绘制该表面相对于该基准参考的位移的系统和方法。激光扫描仪生成关于一个远端表面相对于参考点的空间定向的测量值的点群数据,以限定所述表面的三维图像。存储关于该基准参考相对于该表面的空间定向的参考数据。处理装置处理所述点群数据和所述基准参考数据,以确定所述表面关于所述基准参考的相对位移。一种系统,包括:数据处理装置,用于获得在一个与基准参考一致的坐标系中限定一个表面的点群数据,以及生成关于在所述点群中每个点和所述基准参考中相关的点之间的位移的位移数据;比较装置,用于将位移数据与指定阈值进行比较;以及显示装置,用于图形方式显示比较结果。
基本信息
专利标题 :
相对于参考测量和绘制表面的系统和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101248330A
申请号 :
CN200580051388.7
公开(公告)日 :
2008-08-20
申请日 :
2005-10-20
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
M·P·斯图尔特D·利克蒂J·弗兰克
申请人 :
斯甘拉伊斯股份有限公司
申请人地址 :
澳大利亚西澳洲本特利
代理机构 :
北京北翔知识产权代理有限公司
代理人 :
谢静
优先权 :
CN200580051388.7
主分类号 :
G01B11/30
IPC分类号 :
G01B11/30 G01B21/30 B02C17/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/275
••用于检测轮子准直度
G01B11/30
用于计量表面的粗糙度和不规则性
法律状态
2015-06-17 :
授权
2008-10-15 :
实质审查的生效
2008-08-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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