等离子反应器顶置源功率电极
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明公开了一种形成等离子反应器顶部至少一部分的顶置气体分布电极，其具有面对反应器处理区的底表面。该电极包括气体供应歧管和多个压降圆柱形孔，前者用于在所述电极顶部处接收供应压力下的处理气体，后者从每个孔的一端处的气体供应歧管相对于电极轴向延伸。电极内的径向气体分布歧管跨越电极径向延伸。多个轴向延伸高导通率气流通道将多个压降孔中各个的相对端耦合到径向气体分布歧管。多个高导通率圆柱形出气孔形成在电极的面对等离子的底表面中并轴向延伸到径向气体分布歧管。
基本信息
专利标题 ：
等离子反应器顶置源功率电极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1812684A
申请号 ：
CN200610001547.9
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
道格拉斯·A·小布什伯格丹尼尔·J·霍夫曼欧加·莱格拉曼詹姆斯·卡达希堀冈启治蒋国杨
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
赵飞
优先权 ：
CN200610001547.9
主分类号 ：
H05H1/34
IPC分类号 ：
H05H1/34 H01J37/32 H01L21/00
法律状态
2015-08-05 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101718889506
IPC(主分类) : H05H 1/34
专利申请号 : 2006100015479
申请公布日 : 20060802
号牌文件序号 : 101718889506
IPC(主分类) : H05H 1/34
专利申请号 : 2006100015479
申请公布日 : 20060802
2007-02-14 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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