涂布、显像装置和涂布、显像方法
授权
摘要
本发明提供一种涂布、显像装置，在将抗蚀剂涂布在基板上、液浸曝光后的基板进行显像时，能够抑制微粒污染。该涂布、显像装置构成为具有：设置有涂布抗蚀剂的涂布单元和供给显像液并显像的显像单元的处理区；和与进行液浸曝光的曝光装置连接的接口部，上述接口部具有基板清洗单元、第一搬送机构和第二搬送机构。通过第一搬送机构将曝光后的基板搬送到基板清洗单元，通过第二搬送机构搬送由该清洗单元清洗后的基板，因此可避免微粒再次附着，能够防止微粒污染扩散至处理区的各处理单元和各处理单元所处理的基板。
基本信息
专利标题 ：
涂布、显像装置和涂布、显像方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1818787A
申请号 ：
CN200610003290.0
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2006-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
石田省贵中原田雅弘山本太郎
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN200610003290.0
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/20 G03F7/26 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2009-09-02 ：
授权
2006-10-11 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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