包括铁电层的数据记录介质及制造该数据记录介质的方法

专利权的终止

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摘要

本发明提供一种包括铁电层的数据记录介质以及制造该数据记录介质的方法。在所述数据记录介质中，阻挡层、导电层和种子层依次堆叠在基板上。数据记录层在种子层上形成并具有竖直的剩余极化。

基本信息

专利标题：

包括铁电层的数据记录介质及制造该数据记录介质的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1822221A

申请号：

CN200610007698.5

公开（公告）日：

2006-08-23

申请日：

2006-02-17

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

洪承范金允锡金承贤卢光洙

申请人：

三星电子株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司

代理人：

郭鸿禧

优先权：

CN200610007698.5

主分类号：

G11C11/22

IPC分类号：

G11C11/22 H01L21/8239 H01L27/105

IPC结构图谱

G部——物理

G11

信息存储

G11C

静态存储器

G11C11/08

应用多孔存储元件的，例如：应用多孔磁芯存储器；应用把几个单独的多孔存储元件合并起来的板

G11C11/21

应用电元件的

G11C11/22

应用铁电元件的

法律状态

2015-04-08 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101604515340
IPC(主分类) : G11C 11/22
专利号 : ZL2006100076985
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20090902
终止日期 : 20140217

2009-09-02 ：

授权

2006-10-18 ：

实质审查的生效

2006-08-23 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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