磁记录介质、磁记录再生装置以及磁记录介质的制造方法

专利权的终止

摘要

本发明提供一种具有以凹凸图案形成，将记录要素作为该凹凸图案的凸部形成的记录层，且得到磁头的良好的悬浮特性的可靠性高的磁记录介质，具有该磁记录介质的磁记录再生装置以及这样的磁记录介质的制造方法。磁记录介质(12)，具有：在基板上以规定的凹凸图案形成，将记录要素(24A)作为该凹凸图案的凸部形成的记录层(24)；在记录要素(24A)之间的凹部(26)填充的填充要素(28)；电阻率低于填充要素(28)且在填充要素(28)上形成的导电膜(30)；覆盖记录要素(24A)以及填充要素(28)，且与导电膜(30)的上面接触地形成的保护膜(32)。

基本信息

专利标题：

磁记录介质、磁记录再生装置以及磁记录介质的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1822112A

申请号：

CN200610009217.4

公开（公告）日：

2006-08-23

申请日：

2006-02-14

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

服部一博诹访孝裕

申请人：

TDK股份有限公司

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

高龙鑫

优先权：

CN200610009217.4

主分类号：

G11B5/66

IPC分类号：

G11B5/66 G11B5/72