垂直磁记录介质、其制造方法与磁记录和再现设备
专利权的终止
摘要

提供了一种具有更高记录密度的垂直磁记录介质,以及利用这种介质的磁记录和再现设备。该垂直磁记录介质至少包括依次形成在非磁性基底上的底层、中间层、垂直磁记录膜以及保护膜,其中,所述垂直磁记录膜由具有不同成分的两层构成,该两层至少包含Co、Pt和氧化物并具有颗粒结构,设置在所述基底一侧的下层垂直磁记录膜的饱和磁化强度(Ms)小于设置在保护膜一侧的在该下层垂直磁记录膜上的上层记录膜的饱和磁化强度(Ms)。

基本信息
专利标题 :
垂直磁记录介质、其制造方法与磁记录和再现设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101040326A
申请号 :
CN200580034550.4
公开(公告)日 :
2007-09-19
申请日 :
2005-10-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
清水谦治
申请人 :
昭和电工株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
杨晓光
优先权 :
CN200580034550.4
主分类号 :
G11B5/65
IPC分类号 :
G11B5/65  G11B5/738  G11B5/66  G11B5/851  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的;用磁性方法进行重现的;为此所用的记录载体
G11B5/62
按所用材料选择区分的记录载体
G11B5/64
仅由无须黏结剂的磁性材料构成的
G11B5/65
以成分为特征的
法律状态
2014-12-17 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101591756153
IPC(主分类) : G11B 5/65
专利号 : ZL2005800345504
申请日 : 20051025
授权公告日 : 20100512
终止日期 : 20131025
2010-05-12 :
授权
2007-11-14 :
实质审查的生效
2007-09-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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