磁记录介质及磁记录再现装置

专利权的终止

摘要

本发明提供一种可靠性高的磁记录介质，其具有以凸部形成记录要素的记录层以及被填充在记录要素之间的凹部中的填充物，即使与磁头接触表面也很难受到损伤，从而可以确实的获得良好的记录、再现特性。磁记录介质(12)包括：在基板(22)上以规定的凹凸图案形成并且以该凹凸图案的凸部形成记录要素(24A)的记录层(24)；和被填充在记录要素(24A)之间的凹部(26)中的填充物(28)，填充物(28)实质上是由Si以及O构成的，且O原子数相对于Si原子数的比率大于等于1.5且小于2。

基本信息

专利标题：

磁记录介质及磁记录再现装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1825439A

申请号：

CN200610005488.2

公开（公告）日：

2006-08-30

申请日：

2006-01-16

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

大川秀一高井充岛川和也

申请人：

TDK股份有限公司

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

高龙鑫

优先权：

CN200610005488.2

主分类号：

G11B5/62

IPC分类号：

G11B5/62 G11B5/72 G11B5/84