磁记录介质及其制造方法以及磁记录和再现装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种磁记录介质，该磁记录介质形成在铝基底(Al－Mg合金)上，该铝基底具有纹理条纹以及NiP镀层，具有沿周向的磁各向异性，以及具有高顽磁性、高角形比以及令人满意的电磁转换特性，本发明还提供了其制造方法以及一种磁记录和再现装置。该磁记录介质至少包括取向控制层、非磁性内涂层、磁性层以及保护层，它们按照上述顺序层叠在铝基底上。该取向控制层包含选自于Co、Ni和Fe中的一种或多种成分以及选自于W、Mo、Ta和Nb中的一种或多种成分。
基本信息
专利标题 ：
磁记录介质及其制造方法以及磁记录和再现装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101138024A
申请号 ：
CN200680007231.9
公开（公告）日 ：
2008-03-05
申请日 ：
2006-03-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大泽弘
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
杨晓光
优先权 ：
CN200680007231.9
主分类号 ：
G11B5/738
IPC分类号 ：
G11B5/738 G11B5/65
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/62
按所用材料选择区分的记录载体
G11B5/73
底层
G11B5/738
按中间层区分的
法律状态
2010-01-13 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-04-30 ：
实质审查的生效
2008-03-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
