磁记录介质、其制造方法、以及磁记录和再现装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种记录密度较高、矫顽磁力较大和噪声较小的磁记录介质。还提供磁记录介质的制造方法、磁记录和再现装置。磁记录介质至少包括非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层，这些层以此顺序层叠在非磁性基底上，并且非磁性内涂层的至少一层由WV合金或者MoV合金制成。
基本信息
专利标题 ：
磁记录介质、其制造方法、以及磁记录和再现装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101124627A
申请号 ：
CN200580048564.1
公开（公告）日 ：
2008-02-13
申请日 ：
2005-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大泽弘
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
杨晓光
优先权 ：
CN200580048564.1
主分类号 ：
G11B5/738
IPC分类号 ：
G11B5/738 G11B5/64 G11B5/65 G11B5/73 G11B5/851
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/62
按所用材料选择区分的记录载体
G11B5/73
底层
G11B5/738
按中间层区分的
法律状态
2011-01-12 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101061481477
IPC(主分类) : G11B 5/738
专利申请号 : 2005800485641
公开日 : 20080213
号牌文件序号 : 101061481477
IPC(主分类) : G11B 5/738
专利申请号 : 2005800485641
公开日 : 20080213
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2008-02-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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