磁记录介质及其制造方法、以及用于磁记录介质的中间体
专利权的终止
摘要

提供一种磁记录介质,在该磁记录介质中,以预定凹凸图案将磁记录层5设置在基片1A上,并用非磁性材料填充凹凸图案中的凹部分,在凹凸图案的凸部分上形成非磁性层16,所述非磁性层16由非磁性材料中的位于凹部分底面的非磁性材料形成,同时,使凸部分和凹部分的表面基本平坦化,并且所述非磁性层16的厚度等于或小于1nm。

基本信息
专利标题 :
磁记录介质及其制造方法、以及用于磁记录介质的中间体
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1783229A
申请号 :
CN200510104938.9
公开(公告)日 :
2006-06-07
申请日 :
2005-09-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
高井充服部一博诹访孝裕大川秀一
申请人 :
TDK株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
何立波
优先权 :
CN200510104938.9
主分类号 :
G11B5/82
IPC分类号 :
G11B5/82  G11B5/62  G11B5/84  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的;用磁性方法进行重现的;为此所用的记录载体
G11B5/74
按形状区分的记录载体,例如,沿圆筒缠绕成形的片材
G11B5/82
盘状载体
法律状态
2012-11-21 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101350317525
IPC(主分类) : G11B 5/82
专利号 : ZL2005101049389
申请日 : 20050922
授权公告日 : 20080813
终止日期 : 20110922
2008-08-13 :
授权
2006-08-02 :
实质审查的生效
2006-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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