磁记录介质的制造方法
专利权的终止
摘要
一种磁记录介质的制造方法，能够制造具有凹凸图案的记录层且表面充分平坦的磁记录介质。制作具有在基板(12)上以规定的凹凸图案形成的记录层(32)及在该记录层(32)的至少记录要素(32A)(凸部)上形成的第一掩模层(暂定基底材料)(22)的被加工体(10)，并在被加工体(10)上成膜与第一掩模层(22)不同的填充物(36)而填充凹部(34)，而且，通过干式蚀刻法除去填充物(36)多余部分中的至少一部分，以使第一掩模层(22)的至少一侧面露出，并通过对第一掩模层(22)的蚀刻速率高于对填充物(36)的蚀刻速率的蚀刻法，除去第一掩模层(22)而使表面平坦化。
基本信息
专利标题 ：
磁记录介质的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1815570A
申请号 ：
CN200510131432.7
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2005-12-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
诹访孝裕大川秀一岛川和也
申请人 ：
TDK股份有限公司
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
高龙鑫
优先权 ：
CN200510131432.7
主分类号 ：
G11B5/84
IPC分类号 ：
G11B5/84 G11B5/66
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/84
专用于制造记录载体的方法或设备
法律状态
2014-02-05 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101567528116
IPC(主分类) : G11B 5/84
专利号 : ZL2005101314327
申请日 : 20051212
授权公告日 : 20080618
终止日期 : 20121212
号牌文件序号 : 101567528116
IPC(主分类) : G11B 5/84
专利号 : ZL2005101314327
申请日 : 20051212
授权公告日 : 20080618
终止日期 : 20121212
2008-06-18 ：
授权
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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