磁记录介质的制造方法、磁记录介质以及表面处理装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明提供一种磁记录介质，它具有卓越的启动操作性能和耐久性以及令人满意的表面润滑性。本发明涉及到一种磁记录介质的制造方法，在这种磁记录介质中，在非磁性基底上顺序层积至少磁性层、保护膜层和润滑剂层，其中，使用在接近大气压的气压下产生的等离子体所激活的气体对所述润滑剂层进行表面处理。本发明也涉及到根据上述制造方法所制造的一种磁记录介质。

基本信息

专利标题：

磁记录介质的制造方法、磁记录介质以及表面处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101151663A

申请号：

CN200680009909.7

公开（公告）日：

2008-03-26

申请日：

2006-01-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

大泽弘黑川刚平

申请人：

昭和电工株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

杨晓光

优先权：

CN200680009909.7

主分类号：

G11B5/84

IPC分类号：

G11B5/84 G11B5/725 H01J37/31 H01J37/32 H05H1/24