利用激光扫描共聚焦显微镜制作高密度光栅的方法
专利权的终止
摘要

一种高密度光栅的制作方法,属于光学器件的制造、光测力学技术领域。本发明是在成熟商品仪器激光扫描共聚焦显微镜的操作环境中,利用其照明光源所发出的波长在光刻胶感光敏感波长范围内的聚焦激光点,对光栅基底材料表面的光刻胶进行扫描曝光,通过调整激光扫描共聚焦显微镜目镜的放大倍数、扫描线数、扫描次数以及扫描方向,能制作出可变密度、可变深度的单向光栅、正交光栅或应变花光栅;该方法的光栅制作原理清晰,操作简单,不需要人为布置光路,以及精确调整激光束的入射角度等重要参数;无需专业设备投资,制作成本低。

基本信息
专利标题 :
利用激光扫描共聚焦显微镜制作高密度光栅的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1815274A
申请号 :
CN200610011471.8
公开(公告)日 :
2006-08-09
申请日 :
2006-03-10
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
谢惠民潘兵方岱宁邢永明岸本哲戴福隆
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
100084北京市北京100084-82信箱
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200610011471.8
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18  G02B1/00  G03F7/00  G02B21/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2016-04-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101658322190
IPC(主分类) : G02B 5/18
专利号 : ZL2006100114718
申请日 : 20060310
授权公告日 : 20070822
终止日期 : 20150310
2007-08-22 :
授权
2006-10-04 :
实质审查的生效
2006-08-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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