可调谐等离子体谐振腔
发明专利申请公布后的驳回
摘要

本发明涉及一种用于PCVD光纤预制棒加工机床的可调谐等离子体谐振腔,包括有圆柱型谐振腔壳体,在圆柱型谐振腔壳体的两端设置截止波导,其不同之处在于在圆柱型谐振腔腔体的一端安设调谐活塞,调谐活塞的中部开设通孔,后端延伸至圆柱型谐振腔壳体外端。本发明通过在谐振腔设置调谐活塞,能使波导装置很好地与谐振腔负载匹配,实现能量耦合的实时控制;这有助于提高PCVD工艺的加工精度和效率,避免微波对系统器件的损坏,提高等离子体谐振腔微波系统的有效使用寿命;本发明的场结构稳定,无极化兼并模式,损耗小,Q值高。本发明还具有结构简单,性能稳定,便于加工和制作的特点。

基本信息
专利标题 :
可调谐等离子体谐振腔
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1858298A
申请号 :
CN200610018569.6
公开(公告)日 :
2006-11-08
申请日 :
2006-03-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
孙建华李震宇刘善沛
申请人 :
长飞光纤光缆有限公司
申请人地址 :
430073湖北省武汉市武昌关山二路四号
代理机构 :
湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人 :
胡建平
优先权 :
CN200610018569.6
主分类号 :
C23C16/513
IPC分类号 :
C23C16/513  C23C16/52  H05H1/34  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2011-09-14 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183794840
IPC(主分类) : H01P 7/06
专利申请号 : 2006100185696
公开日 : 20061108
2007-01-03 :
实质审查的生效
2006-11-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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