用于激光打标的掩模及激光打标装置
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摘要
本发明公开了一种用于激光打标的掩模，包括凹腔片，该凹腔片具有镂空的标识，在该凹腔片的凹面镀有全反射膜；以及凸腔片，该凸腔片的凸面镀有全反射膜；并且所述凹腔片与凸腔片组成正支共焦非稳腔。这种掩模利用正支共焦非稳腔构成无源震荡腔室，进入腔室的激光做无源震荡，提高了激光能量的利用率。本发明还同时公开了一种安装了该掩模的激光打标装置。
基本信息
专利标题 ：
用于激光打标的掩模及激光打标装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1807114A
申请号 ：
CN200610033452.5
公开（公告）日 ：
2006-07-26
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
戈军
申请人 ：
戈军
申请人地址 ：
510600广东省广州市农林下路38号之二402房
代理机构 ：
广州三环专利代理有限公司
代理人 ：
郝传鑫
优先权 ：
CN200610033452.5
主分类号 ：
B41M5/24
IPC分类号 ：
B41M5/24 B44B7/00 B23K26/18
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B41
印刷；排版机；打字机；模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷
B41M5/00
复制或标记方法；供其使用的单张材料
B41M5/24
烧蚀标记法，例如烙标记；用电火花作标记
法律状态
2008-01-30 ：
授权
2006-09-20 ：
实质审查的生效
2006-07-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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