等离子发生装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种用于有机材料表面处理的稳定均匀的低温等离子体发生装置，本发明包括同轴、彼此绝缘设置的圆桶形的内、外桶，内桶的桶壁上均布有通孔，内、外桶之间的空间形成了产生等离子体的发生区，等离子体通过内桶上的开孔从四周向中心扩散，使整个内桶内部空间形成均匀等离子体用来处理物件，由于被处理的高分子材料置于两电极之外，不影响装置的电容参数，保证等离子体参数的一致性，最终保证生产过程中，每次处理效果的一致性。
基本信息
专利标题 ：
等离子发生装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1812688A
申请号 ：
CN200610037708.X
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李衎
申请人 ：
李衎
申请人地址 ：
230022安徽省合肥市屯溪路301号12幢404室
代理机构 ：
合肥诚兴知识产权代理有限公司
代理人 ：
汤茂盛
优先权 ：
CN200610037708.X
主分类号 ：
H05H1/46
IPC分类号 ：
H05H1/46 H05H1/02
法律状态
2011-02-16 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101068177418
IPC(主分类) : H05H 1/46
专利申请号 : 200610037708X
公开日 : 20060802
号牌文件序号 : 101068177418
IPC(主分类) : H05H 1/46
专利申请号 : 200610037708X
公开日 : 20060802
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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