防护胶膜框架
授权
摘要
本发明提供贴附于光罩后很容易即可剥离的防护胶膜框架、及利用该防护胶膜框架的照相平版印刷用防护胶膜组件。本发明的防护胶膜框架的特征为，框架的长边长度为500mm以上的大型防护胶膜组件时，角部(12)的50mm以内的外侧面至少设有1处凹部(13)。此外，防护胶膜框架(11)的外侧面整体配设5处以上的凹部(13)，凹部(13)为直径1.0mm以上、3.0mm以下、深度0.5mm以上的未贯穿的圆孔。其次，利用此种防护胶膜框架来构成防护胶膜组件。
基本信息
专利标题 ：
防护胶膜框架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1854891A
申请号 ：
CN200610054952.7
公开（公告）日 ：
2006-11-01
申请日 ：
2006-02-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
关原一敏
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
魏晓刚
优先权 ：
CN200610054952.7
主分类号 ：
G03F1/14
IPC分类号 ：
G03F1/14 G03F1/00 B29C41/00
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法律状态
2011-09-21 ：
授权
2006-12-27 ：
实质审查的生效
2006-11-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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