防护膜框架和防护膜组件
授权
摘要
本发明提供：一种能够有效抑制因贴附防护膜组件(1)而引起的曝光原版(8)的变形、且不具有复杂形状的防护膜框架(2)；和使用了该防护膜框架的防护膜组件。一种防护膜框架，其特征在于：在铝合金制框架的表面具有阳极氧化膜，该铝合金制框架由铝合金构成，该铝合金含有5.0～10.0质量％的Ca且剩余部分为铝和不可避免的杂质，该铝合金中作为分散相的Al4Ca相的面积(体积)率为25％以上，Al4Ca相的一部分的晶体结构是单斜晶，并且，阳极氧化膜具有Al4Ca颗粒。
基本信息
专利标题 ：
防护膜框架和防护膜组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109416504A
申请号 ：
CN201780042217.0
公开（公告）日 ：
2019-03-01
申请日 ：
2017-06-30
授权号 ：
CN109416504B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
田口喜弘山口隆幸俞俊石渡保生
申请人 ：
日本轻金属株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN201780042217.0
主分类号 ：
G03F1/64
IPC分类号 ：
G03F1/64 C22C21/00 C22F1/04 C25D11/04 C25D11/06 C25D11/22 C22F1/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
G03F1/64
以框架为特征的,例如其结构或材料
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2019-06-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/64
申请日 : 20170630
申请日 : 20170630
2019-03-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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