共平面开关模式液晶显示器件及其制造方法
授权
摘要
本发明公开了一种共平面开关模式液晶显示器件，该器件包括：第一基板和第二基板；在第一基板上垂直和水平排列以限定像素区的栅线和数据线；在栅线和数据线的各交叉点处形成的开关元件；在与栅线、数据线和开关元件相对应的区域上形成的黑矩阵，并且所述黑矩阵具有与所述栅线的上部相对应同时延伸到所述像素区中的部分；在所述像素区形成的滤色片；在所述滤色片上形成的至少一对公共电极和像素电极，并且在像素区内产生共平面电场；以及在第一基板和第二基板之间形成的液晶层。
基本信息
专利标题 ：
共平面开关模式液晶显示器件及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1834758A
申请号 ：
CN200610057581.8
公开（公告）日 ：
2006-09-20
申请日 ：
2006-03-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金东国
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200610057581.8
主分类号 ：
G02F1/136
IPC分类号 ：
G02F1/136 G02F1/1335 G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2009-03-18 ：
授权
2006-11-22 ：
实质审查的生效
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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