叠层型光电动势装置及其制造方法
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摘要
本发明涉及一种叠层型光电动势装置，在支承基板上顺次形成有背面金属电极、在光电转换层中使用微晶硅的底部单元、在光电转换层中使用非晶硅的前部单元、和表面透明电极。对前部光电转换层中的杂质浓度和底部光电转换层中的杂质浓度中的至少一方进行控制，使得底部光电转换层中含有的杂质浓度高于前部光电转换层中含有的杂质浓度。杂质不包含p型掺杂或n型掺杂，是碳、氮、氧中的一种、两种或全部。
基本信息
专利标题 ：
叠层型光电动势装置及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1828946A
申请号 ：
CN200610057778.1
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-02-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
岛正树二宫国基
申请人 ：
三洋电机株式会社
申请人地址 ：
日本大阪
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN200610057778.1
主分类号 ：
H01L31/0248
IPC分类号 ：
H01L31/0248 H01L31/036 H01L31/20
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法律状态
2010-06-09 ：
授权
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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