射线照相成像系统及其设计方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明提供了一种用于设计射线照相成像系统的方法,包括:1)接收对所述系统的多个设计约束;然后2)响应于所述约束,生成多个射线照相成像系统设计,每个所述射线照相成像系统设计都具有不同数量的射线照相源,每个所述射线照相成像系统设计都需要不同数量的名义扫描程来对样品的感兴趣区域成像。与具有较少射线照相源的射线照相成像系统设计相比,具有较多的射线照相源的设计包括共享至少一些一致的名义扫描程的经平移的射线照相探测区域组。每个所述平移射线照相探测区域组与相对于构成具有较少射线照相源的射线照相成像系统设计的一部分的射线照相源被复制和平移的射线照相源相关联。还公开了相关的系统和装置。

基本信息
专利标题 :
射线照相成像系统及其设计方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1831523A
申请号 :
CN200610058342.4
公开(公告)日 :
2006-09-13
申请日 :
2006-03-03
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
约翰·M·海曼杰拉尔德·L·迈耶
申请人 :
安捷伦科技有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王怡
优先权 :
CN200610058342.4
主分类号 :
G01N23/04
IPC分类号 :
G01N23/04  G03B42/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/02
通过使辐射透过材料
G01N23/04
并形成材料的图片
法律状态
2011-03-23 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101076731096
IPC(主分类) : G01N 23/04
专利申请号 : 2006100583424
公开日 : 20060913
2008-05-14 :
实质审查的生效
2006-09-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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