光学成像系统及设计方法
授权
摘要

本发明公开了一种光学成像系统及设计方法,涉及光学设计技术领域,所述光学成像系统包括:前组透镜、液晶透镜和后组透镜,所述液晶透镜位于所述光学成像系统的光阑位置处,所述液晶透镜的孔径为所述光学成像系统的光阑。本发明将液晶透镜与光学系统结合起来设计,将液晶透镜放置在光学系统内部适当的位置,通过前组透镜的放大作用,增大系统的入瞳直径,进而增加系统的光通量;更优情况下,将液晶透镜放置于系统光阑的位置,从而实现对焦过程放大率不变的特性,并且减小光学系统的瞳孔像差。

基本信息
专利标题 :
光学成像系统及设计方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110967826A
申请号 :
CN201811155116.7
公开(公告)日 :
2020-04-07
申请日 :
2018-09-30
授权号 :
CN110967826B
授权日 :
2022-04-12
发明人 :
王起飞叶茂
申请人 :
成都微晶景泰科技有限公司
申请人地址 :
四川省成都市青羊区百花潭路8号5层508号
代理机构 :
深圳市华勤知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
隆毅
优先权 :
CN201811155116.7
主分类号 :
G02B27/00
IPC分类号 :
G02B27/00  G02B15/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
法律状态
2022-04-12 :
授权
2020-05-01 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 27/00
申请日 : 20180930
2020-04-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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