光学成像系统及成像装置、合成曲面设计方法及记录介质
实质审查的生效
摘要

本发明公开光学成像系统及成像装置、合成曲面设计方法及记录介质。本发明的光学成像系统包括一个以上划分为多个区域的透镜面,所述多个区域中的相邻区域为通过相互不同的数学式表示的面,通过所述多个区域中的每一者的光在相同的图像传感器的上表面成像。根据本发明,在构成光学成像系统的透镜面合成相互不同的形状的曲面,而可形成以往无法实现的合成球面,由此可提高光学成像系统的设计自由度。并且,根据本发明,可大幅提高影像的清晰度或MTF特性等光学成像系统的光学特性。此外,通过应用这种具有多个表面区域的合成曲面,可以在光学成像系统的多个视场区域中单独优化、合成或调整诸如MTF的光学特性。

基本信息
专利标题 :
光学成像系统及成像装置、合成曲面设计方法及记录介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114460715A
申请号 :
CN202111140435.2
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2021-09-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
文俊皓金伶炫崔秉石崔元永
申请人 :
擎亚电子光学
申请人地址 :
韩国京畿道
代理机构 :
成都超凡明远知识产权代理有限公司
代理人 :
魏彦
优先权 :
CN202111140435.2
主分类号 :
G02B13/00
IPC分类号 :
G02B13/00  G02B13/18  G02B27/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B13/00
为下述用途专门设计的光学物镜
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 13/00
申请日 : 20210928
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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