电光装置、其制造方法以及电子设备
授权
摘要
本发明在液晶等的电光装置中，可谋求叠层结构和制造过程的简单化，而且可以进行高品质的显示。电光装置具备：数据线及扫描线；和薄膜晶体管，与数据线相比配置于下层侧。还具备：存储电容，与数据线相比配置于上层侧，并从下层侧依次叠层像素电位侧电极、电介质膜及固定电位侧电极；像素电极，对每个像素进行配置，并且与像素电位侧电极及薄膜晶体管进行电连接；以及层间绝缘膜，叠层于电介质膜的上层侧。存储电容具有下述叠层结构，该叠层结构在从开设于层间绝缘膜的开口所露出的电介质膜之上，叠层固定电位侧电极。
基本信息
专利标题 ：
电光装置、其制造方法以及电子设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1837935A
申请号 ：
CN200610065472.0
公开（公告）日 ：
2006-09-27
申请日 ：
2006-03-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山崎康二
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
陈海红
优先权 ：
CN200610065472.0
主分类号 ：
G02F1/136
IPC分类号 ：
G02F1/136 G02F1/133 H01L29/786 H01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2008-07-23 ：
授权
2006-11-22 ：
实质审查的生效
2006-09-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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