光敏组合物和平版印刷版原版
授权
摘要
光敏组合物包括：通过聚合具有本文所定义的式(I)所示结构的单体得到的聚合物；具有不饱和双键的可聚合化合物；和选自六芳基二咪唑化合物和金属茂化合物的自由基聚合引发剂。
基本信息
专利标题 ：
光敏组合物和平版印刷版原版
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1834784A
申请号 ：
CN200610071800.8
公开（公告）日 ：
2006-09-20
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
涉谷明规
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
陈平
优先权 ：
CN200610071800.8
主分类号 ：
G03F7/027
IPC分类号 ：
G03F7/027 G03F7/028 G03F7/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
法律状态
2011-01-12 ：
授权
2008-04-30 ：
实质审查的生效
2007-09-12 ：
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 富士胶片控股株式会社
变更后权利人 : 富士胶片株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国东京都
变更后权利人 : 日本国东京都
登记生效日 : 20070803
变更前权利人 : 富士胶片控股株式会社
变更后权利人 : 富士胶片株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国东京都
变更后权利人 : 日本国东京都
登记生效日 : 20070803
2006-09-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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