正型平版印刷版原版及其制造方法、以及平版印刷版的制作方法
授权
摘要

本发明提供一种正型平版印刷版原版,其在具有亲水性表面或亲水性层的支撑体上至少依次具有下层、中间层及上层,下层包含在主链上具有选自包括氨基甲酸酯键、缩醛结构及脲键的组中的至少一个结构的高分子化合物1,中间层包含在侧链上具有选自包括磺酰胺基、活性酰亚胺基及脲键的组中的至少一个结构的高分子化合物2,上层包含具有酚性羟基的高分子化合物3,在上述3层中的1个以上的层中含有红外线吸收剂。并且,提供一种上述正型平版印刷版原版的制造方法及使用了上述正型平版印刷版原版的平版印刷版的制作方法。

基本信息
专利标题 :
正型平版印刷版原版及其制造方法、以及平版印刷版的制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109791361A
申请号 :
CN201780058708.4
公开(公告)日 :
2019-05-21
申请日 :
2017-09-07
授权号 :
CN109791361B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
佐藤尚志向山怜菜安原祐一
申请人 :
富士胶片株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
曹阳
优先权 :
CN201780058708.4
主分类号 :
G03F7/11
IPC分类号 :
G03F7/11  G03F7/00  G03F7/004  G03F7/032  G03F7/035  G03F7/095  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的,例如,基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的,例如,胶层
法律状态
2022-06-03 :
授权
2019-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20170907
2019-05-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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