大模场双包层单模光纤

专利权的终止

摘要

大模场双包层单模光纤，纤芯介质折射率为n₁，内包层由高折射率介质n₁和低折射率介质n₂组成，两种介质具有相同的角度且沿圆周周期性分布。外包层介质折射率为n₃(n₃＜n₂＜n₁)。一种结构内包层上有均匀分布的空气小孔，另一种结构内包层上只有低折射率区分布有空气小孔。本实用新型具有多孔光纤的泄漏模结构，并能使高阶模具有更大的泄漏损耗，从而保证光纤在大纤芯直径下仍能获得单模输出，模场直径的增大减小了非线性效应对光纤的影响，能获得高功率的单模输出。

基本信息

专利标题：

大模场双包层单模光纤

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620048887.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-12-13

授权号：

CN200993680Y

授权日：

2007-12-19

发明人：

楼祺洪李占波周军

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200620048887.2

主分类号：

G02B6/02

IPC分类号：

G02B6/02