泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤

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摘要

一种泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤，包括纤芯、内包层及外包层，其特征是在所述的纤芯和内包层之间还有中间层和泄漏层，所述的纤芯是掺镱石英玻璃，所述的纤芯、中间层、泄漏层、内包层和外包层的折射率分别为n₁、n₂、n₃、n₄、n₅，且n₅＜n₄＜n₂＜n₃＝n₁，所述的纤芯的半径为a，中间层的最大半径为b，1.5a＜b＜2a，n₁通常在1.46～1.47之间，0.27％＜Δ＝(n₁－n₂)/n₁＜0.54％。本实用新型泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤可利用传统双包层光纤的拉制方法拉制，具有较大纤芯时，仍能保证高功率单模运行。

基本信息

专利标题：

泄漏结构大模场双包层单模掺镱光纤

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720070556.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-06-01

授权号：

CN201044001Y

授权日：

2008-04-02

发明人：

楼祺洪李立波周军吴国华董景星魏运荣

申请人：

中国科学院上海光学精密机械研究所

申请人地址：

201800上海市800－211邮政信箱

代理机构：

上海新天专利代理有限公司

代理人：

张泽纯

优先权：

CN200720070556.3

主分类号：

G02B6/02

IPC分类号：

G02B6/02