一种新型大模场光纤
授权
摘要
本实用新型的实施例提供了一种新型大模场光纤，涉及光纤技术领域。新型大模场光纤包括纤芯、内包层、第一折射层及外包层，内包层包覆于纤芯的外周缘，第一折射层包覆于内包层的外周缘，外包层包覆于第一折射层的外周缘，所述第一折射层的第一折射率大于所述内包层的内包折射率。在本实用新型中，新型大模场光纤的内的激光横模一般为高阶模及基模，在内包层的外周缘设置一层第一折射层，第一折射层的折射率大于内包层的内包折射率使整个新型大模场光纤对高阶模的束缚能力减弱，高阶模将更多的扩散到外包层中，从而减少高阶模与基模的重叠度，降低高阶模的增益能力并增加弯曲损耗。
基本信息
专利标题 ：
一种新型大模场光纤
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020618132.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-22
授权号 ：
CN211554371U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
陶汝茂谢亮华
申请人 ：
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 ：
四川省绵阳市游仙区绵山路64号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
杨鹏
优先权 ：
CN202020618132.1
主分类号 ：
G02B6/02
IPC分类号 ：
G02B6/02 G02B6/036
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/02
带有包层的光导纤维
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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