荧光渗透探伤系统
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
本实用新型涉及一种荧光渗透探伤系统,属于探伤技术领域。本实用新型是对现有简单的荧光渗透探伤检测设备结构的改进,包括预清洗部分、渗透部分、后清洗部分和输送系统,通过将上述各部分的槽体设计呈双层结构,并具有上盖和开盖装置,相关槽体内分别设置喷淋装置、回转装置、升降装置、升降式暗罩、喷粉装置,使整个系统科学合理,根据需要组合,能够实现零件表面缺陷的自动化或半自动化探伤作业,降低了操作人员的劳动强度,提高了荧光渗透探伤的效率,本实用新型适用于航空、航天、兵器系统和相关民用工业领域对零部件的探伤检测。
基本信息
专利标题 :
荧光渗透探伤系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620076672.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-09-29
授权号 :
CN200956015Y
授权日 :
2007-10-03
发明人 :
张继功
申请人 :
张继功
申请人地址 :
100088北京市海淀区西土城路8号院1号塔楼801室
代理机构 :
扬州苏中专利事务所
代理人 :
孙忠明
优先权 :
CN200620076672.1
主分类号 :
G01N21/91
IPC分类号 :
G01N21/91 G01N21/64
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/91
利用染料的渗透性,例如荧光墨水
法律状态
2010-02-10 :
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2007-10-03 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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