X射线回摆曲线测定系统
专利权的终止
摘要

X射线回摆曲线测定系统,包括X射线发生器、衍射线控测器、晶片样品旋转台及计算机控制系统;所述的X射线发生装置中设置有X射线管和单色器,X射线管的出口射线以布拉格θ角照射在直立的单色器上,去掉Kβ及连续谱线,剩下的较单色化的Kα射线照射在晶片样品旋转台上的被测晶片上,并在被测晶片中心交于一点,产生晶片衍射光线,晶片衍射光线被X射线探测器接收;所述的计算机系统,包括数据采集器、工业用PC机、打印机及应用软件;所述控测器的输出信号经数据采集器后进入工业用PC机,由应用软件进行去掉Kα2谱线处理后得到样品晶片的回摆曲线。本实用新型具有不破坏样品、无污染、快捷、测量精度高等优点。

基本信息
专利标题 :
X射线回摆曲线测定系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620091761.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-06-27
授权号 :
CN200979535Y
授权日 :
2007-11-21
发明人 :
关守平赵久
申请人 :
关守平;赵久
申请人地址 :
110004辽宁省沈阳市东北大学131信箱
代理机构 :
沈阳利泰专利代理有限公司
代理人 :
李枢
优先权 :
CN200620091761.3
主分类号 :
G01N23/20
IPC分类号 :
G01N23/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/20
利用材料辐射的衍射,例如,用于测试晶体结构;利用材料辐射的散射,例如测试非晶材料;利用材料辐射的反射
法律状态
2011-08-31 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101102307703
IPC(主分类) : G01N 23/20
专利号 : ZL2006200917613
申请日 : 20060627
授权公告日 : 20071121
终止日期 : 20100627
2007-11-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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