批量化制备双面高温超导薄膜装置
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要

一种批量化制备双面高温超导薄膜装置,其特点是:将多个基片均匀排布在圆盘形的样品台上,由主转动轴带动旋转,在加热真空腔体内旋转加热,对靶一次性溅射制备大面积双面高温超导薄膜。在加热真空腔体上下两面对称开有溅射口,上下溅射靶对称排布。真空室上下两面还对称放置金属电极靶材。加热腔体与辅转动轴连接,可以旋转溅射口的位置至金属靶材溅射位置,从而实现原位镀覆电极薄膜。主转动轴由无极变速电极带动,可控制旋转速率;加热腔体外壁及溅射靶体周围留有进气口,保证溅射区域及退火时腔体内气压均匀。利用本装置一次性可批量制备16片φ2英寸、12片φ3英寸的高性能双面高温超导薄膜,并可根据实际需要增大样品尺寸和增加样品数目。

基本信息
专利标题 :
批量化制备双面高温超导薄膜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200620119334.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2006-08-28
授权号 :
CN200943101Y
授权日 :
2007-09-05
发明人 :
古宏伟李弢王霈文杨坚
申请人 :
北京有色金属研究总院
申请人地址 :
100088北京市新街口外大街2号
代理机构 :
北京北新智诚知识产权代理有限公司
代理人 :
胡福恒
优先权 :
CN200620119334.1
主分类号 :
C23C14/35
IPC分类号 :
C23C14/35  C23C14/50  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的,例如磁控溅射
法律状态
2010-01-06 :
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2006828
2007-09-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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