双视角扫描辐射成像装置

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及大型物体辐射检查系统的扫描辐射成像技术领域，本实用新型的双视角扫描辐射成像装置包括辐射源、束流控制器、两列互连的探测器阵列、与各自探测器阵列连接的图像获取系统以及计算机处理系统。本实用新型可以显示分别由探测器阵列所检测的透视图像，也可以显示由两者利用视差原理重建出不同深度的透视图像，方便、快捷、检验速度快，以低成本的方式实现了对不同深度物体的识别。

基本信息

专利标题：

双视角扫描辐射成像装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620167700.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-12-28

授权号：

CN201043955Y

授权日：

2008-04-02

发明人：

谢亚丽苗齐田李元景彭华曹学光温宏胜刘耀红宋全伟顾建平林津杨宏波罗平安

申请人：

同方威视技术股份有限公司

申请人地址：

100084北京市海淀区双清路同方大厦A座二层

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

练光东

优先权：

CN200620167700.0

主分类号：

G01N23/04

IPC分类号：

G01N23/04