垂直磁性记录介质，该介质的制造过程以及垂直磁性记录和再现装置

垂直磁性记录介质，该介质的制造过程以及垂直磁性记录和再现...

专利申请权、专利权的转移

摘要

本发明公开了一种垂直磁性记录介质，其能够实现信息的高密度记录和再现，及其制造过程，以及磁性记录和再现装置。所提供的垂直磁性记录介质至少具有软磁性底层和位于盘形非磁性基底上的垂直磁性记录层，其中该软磁性底层具有至少两个软磁性层和位于两个软磁性层之间的Ru或Re层；该软磁性底层的易磁化轴具有希望的方向；该软磁性底层的易磁化轴基本上沿着除了非磁性基底的径向之外的方向分布，并且沿着该软磁性底层的易磁化轴方向的反铁磁性耦合的偏磁场为10奥斯特(790A/m)或更大。

基本信息

专利标题：

垂直磁性记录介质，该介质的制造过程以及垂直磁性记录和再现装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101111889A

申请号：

CN200680003467.5

公开（公告）日：

2008-01-23

申请日：

2006-01-31

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

高桥研冈正裕喜喜津哲

申请人：

国立大学法人东北大学;昭和电工株式会社;株式会社东芝

申请人地址：

日本宫城县

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

杨晓光

优先权：

CN200680003467.5

主分类号：

G11B5/667

IPC分类号：

G11B5/667 G11B5/738 G11B5/82 G11B5/84 G11B5/852 H01F10/26