制备显示器用阵列板的方法
专利权的终止
摘要
一种显示器用阵列通过如下步骤形成：将在支持膜上具有正性光致抗蚀剂树脂层的正性干膜抗蚀剂粘附到衬底上，使得光致抗蚀剂树脂层粘附在所述衬底的表面上。然后，将所述支持膜从粘附到所述衬底表面的光致抗蚀剂树脂层上释放；将所述层曝光；以及将在所述正性型光致抗蚀剂树脂层中的曝光区域显影并除去。
基本信息
专利标题 ：
制备显示器用阵列板的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101111798A
申请号 ：
CN200680003671.7
公开（公告）日 ：
2008-01-23
申请日 ：
2006-02-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金炳基朴世炯卞达锡宋锡政朴钟旼
申请人 ：
可隆株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
陈平
优先权 ：
CN200680003671.7
主分类号 ：
G02F1/136
IPC分类号 ：
G02F1/136
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2020-01-17 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/136
申请日 : 20060201
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20190201
申请日 : 20060201
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20190201
2009-12-02 ：
授权
2008-03-12 ：
实质审查的生效
2008-01-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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