显示器件及其制备方法
公开
摘要
本申请公开了显示器件及其制备方法，属于半导体器件技术领域，该制备方法包括提供显示装置，显示装置包括阵列排布的多个像素点，像素点发出第一颜色光；在像素点上方形成栅格层，栅格层包括阵列排布的多个栅格孔，栅格孔相对于像素点设置，第一颜色光通过栅格孔；在栅格层上方形成波长转换层，波长转换层包括多个第一波长转换单元，第一波长转换单元填充至少部分栅格孔，第一波长转换单元将第一颜色光转换为第二颜色光。该方法使波长转换层更厚且厚度更可控，光转换效率随之提升；有利于提升波长转换层的粘附性，波长转换层被栅格层保护，避免光刻显影导致的钻蚀影响，图形可以更小，工艺窗口拉大，良率更高，可应用于高分辨率高像素密度的产品。
基本信息
专利标题 ：
显示器件及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114566582A
申请号 ：
CN202210452338.5
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2022-04-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
仉旭庄永漳
申请人 ：
镭昱光电科技（苏州）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区星湖街328号创意产业园1-B302
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄威
优先权 ：
CN202210452338.5
主分类号 ：
H01L33/50
IPC分类号 ：
H01L33/50 H01L33/60 H01L51/52 H01L51/56 H01L27/15 H01L27/32
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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