碳青霉烯衍生物的制备方法及其中间体结晶
专利权的终止
摘要
本发明提供对工业制备方法有利的碳青霉烯合成中间体。提供以使化合物(III)和化合物(IV)在仲胺的存在下反应为特征的化合物(I)、其可药用盐、其溶剂化物或它们的结晶的制备方法以及化合物(I)的苯甲醇合物结晶等。提供化合物(I)的通过Pd催化剂进行的脱保护法以及化合物(IV)等的结晶。
基本信息
专利标题 ：
碳青霉烯衍生物的制备方法及其中间体结晶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101119997A
申请号 ：
CN200680004890.7
公开（公告）日 ：
2008-02-06
申请日 ：
2006-02-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
上仲正朗保积靖之野口耕一小紫唯史
申请人 ：
盐野义制药株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
熊玉兰
优先权 ：
CN200680004890.7
主分类号 ：
C07D477/00
IPC分类号 ：
C07D477/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D477/00
杂环化合物，含有1-氮杂二环庚烷环系，即含下式环系的化合物：，例如碳代青霉素，沙纳霉素；这类环系进一步稠合，例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
法律状态
2018-03-06 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C07D 477/00
申请日 : 20060214
授权公告日 : 20110622
终止日期 : 20170214
申请日 : 20060214
授权公告日 : 20110622
终止日期 : 20170214
2011-06-22 ：
授权
2008-04-02 ：
实质审查的生效
2008-02-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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