漫射薄膜的设计方法及制造方法以及利用其得到的漫射薄膜
专利权的终止
摘要
准备光漫射层中含有的具有互不相同的粒径分布的多种粒子组和支撑体。算出使光漫射层中的多粒子的空间填充率成为规定的空间填充率时的多种粒子组的配合比率，在透明支撑体上分散以算出的配合比率配合的多种粒子组，在透明支撑体上形成光漫射层。这样，可以简单地且以低成本制造漫射薄膜。
基本信息
专利标题 ：
漫射薄膜的设计方法及制造方法以及利用其得到的漫射薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101124495A
申请号 ：
CN200680005443.3
公开（公告）日 ：
2008-02-13
申请日 ：
2006-02-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
远藤俊明竹田明彦岩崎修
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200680005443.3
主分类号 ：
G02B5/02
IPC分类号 ：
G02B5/02 G06F17/50
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/02
漫射元件；远焦元件
法律状态
2022-01-28 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 5/02
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20210217
申请日 : 20060217
授权公告日 : 20091202
终止日期 : 20210217
2009-12-02 ：
授权
2008-04-09 ：
实质审查的生效
2008-02-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN100565249C.PDF
PDF下载
2、
CN101124495A.PDF
PDF下载
