光漫射涂层及其制备和应用
专利申请的视为撤回
摘要
一种由光漫射粒子，例如散布在硅石基体中的氧化铝构成的光漫射涂层，通过将其中散布有胶体硅石和光漫射粒子的硅酮溶液涂复到滤光器上、适当的基底上而形成，然后在高温下热分解此悬浮液以驱除有机成分并形成硅石基体。这种涂层是硬的和耐磨的，对反射器、灯和透镜都是有用的。
基本信息
专利标题 ：
光漫射涂层及其制备和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1093173A
申请号 ：
CN94102896.8
公开（公告）日 ：
1994-10-05
申请日 ：
1994-03-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·K·韦特曼T·G·帕汉姆
申请人 ：
通用电气公司
申请人地址 ：
美国纽约州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
王岳
优先权 ：
CN94102896.8
主分类号 ：
G02B5/02
IPC分类号 ：
G02B5/02 F21V3/04
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/02
漫射元件；远焦元件
法律状态
1996-12-11 ：
专利申请的视为撤回
1994-10-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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