一种结构涂层及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明涉及涂层电阻材料技术领域，尤其涉及一种结构涂层及其制备方法和应用。本发明提供的结构涂层，包括在基底表面依次层叠设置的钛过渡层和铂铪复合结构层；所述铂铪复合结构层的层数≥3；所述铂铪复合结构层包括依次层叠设置的铪层和铂层。本发明利用铪较高的熔点和较低的电阻率，通过在钛过渡层和铂层之间设置铪层，作为铂层的复合相，有效的提高了结构涂层在受热过程中的再结晶温度，抑制了高温下钛过渡层向金属电阻层(铂层)的扩散问题；通过设置所述铂铪复合结构层的层数≥3，增加了界面强化效应，最终得到一种具备高热稳定性的结构涂层。
基本信息
专利标题 ：
一种结构涂层及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113774330A
申请号 ：
CN202110689754.2
公开（公告）日 ：
2021-12-10
申请日 ：
2021-06-22
授权号 ：
CN113774330B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
王鹏乔丽张弘白小刚
申请人 ：
中国科学院兰州化学物理研究所
申请人地址 ：
甘肃省兰州市城关区天水中路18号
代理机构 ：
北京高沃律师事务所
代理人 ：
马丛
优先权 ：
CN202110689754.2
主分类号 ：
C23C14/18
IPC分类号 ：
C23C14/18 C23C14/35 C23C14/58 C23C14/02 H05B3/00 H05B3/02 H05B3/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
C23C14/18
在其他无机物基体上
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-12-28 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/18
申请日 : 20210622
申请日 : 20210622
2021-12-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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