一种非晶柱状结构涂层及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明公开了一种非晶柱状结构涂层及其制备方法和应用，涉及非晶合金涂层技术领域。该非晶柱状结构涂层的制备方法包括：采用等离子喷涂‑物理气相沉积技术将粉末状非晶合金材料喷涂到温度维持在5～20℃基体上，获得非晶柱状涂层。本申请可以继而实现快速冷却，保证涂层非晶化，继而得到非晶柱状结构涂层。制备获得的非晶柱状结构涂层具有类似鲨鱼表皮的沟槽结构，当其涂覆在基体表面时，一方面由于非晶的原子不规则排列具有良好的耐腐蚀性，让基体不受腐蚀；另一方面由于其具有的类似鲨鱼表皮的沟槽结构，能有效减低流体阻尼。其可以广泛应用于船舶、航空、航天、汽车或半导体领域中作为零部件的涂层。
基本信息
专利标题 ：
一种非晶柱状结构涂层及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112853254A
申请号 ：
CN202011624612.X
公开（公告）日 ：
2021-05-28
申请日 ：
2020-12-31
授权号 ：
CN112853254B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
张小锋吴健邓子谦牛少鹏邓春明邓畅光刘敏周克崧
申请人 ：
广东省科学院新材料研究所
申请人地址 ：
广东省广州市天河区长兴路363号
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
黄燕
优先权 ：
CN202011624612.X
主分类号 ：
C23C4/134
IPC分类号 ：
C23C4/134 C23C4/08 C23C4/02 C22C45/08 C23C14/16 C23C14/22 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2021-06-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 4/134
申请日 : 20201231
申请日 : 20201231
2021-05-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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