一种多层结构涂层的制备方法
授权
摘要
本申请涉及一种多层结构涂层的制备方法，该制备方法中提供了增加反应气体M的通入流量、以小电流模式开启第二组B靶材或控制靶材门的方案，解决了应用多弧离子镀膜方法沉积多层结构涂层时，膜层之间结合力较弱，容易发生膜层分离剥落的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种多层结构涂层的制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114293154A
申请号 ：
CN202210217742.4
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2022-03-08
授权号 ：
CN114293154B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
毛昌海祖全先帅小锋
申请人 ：
艾瑞森表面技术（苏州）股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市陆家镇金阳东路28号
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩臻臻
优先权 ：
CN202210217742.4
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/06 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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