具有减少缺陷的表面的微复制物品
专利权的终止
摘要
公开了一种具有减少缺陷和减少浸透的特征的微复制物品及其制造方法。该微复制物品包括具有第一和第二相反的表面的柔性基体、在第一表面上的第一涂布微复制图案、以及在第二表面上的第二涂布微复制图案。所述第一涂布微复制图案和第二涂布微复制图案在10微米范围内配准。
基本信息
专利标题 ：
具有减少缺陷的表面的微复制物品
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101171536A
申请号 ：
CN200680014848.3
公开（公告）日 ：
2008-04-30
申请日 ：
2006-03-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
约翰·C·纳尔逊艾伦·B·坎贝尔
申请人 ：
3M创新有限公司
申请人地址 ：
美国明尼苏达州
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
梁晓广
优先权 ：
CN200680014848.3
主分类号 ：
G02B6/00
IPC分类号 ：
G02B6/00 G02B5/04 G02B3/00 B29D11/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
法律状态
2015-04-29 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101607926775
IPC(主分类) : G02B 6/00
专利号 : ZL2006800148483
申请日 : 20060306
授权公告日 : 20101201
终止日期 : 20140306
号牌文件序号 : 101607926775
IPC(主分类) : G02B 6/00
专利号 : ZL2006800148483
申请日 : 20060306
授权公告日 : 20101201
终止日期 : 20140306
2010-12-01 ：
授权
2008-06-25 ：
实质审查的生效
2008-04-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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