观察硅片样品断面的样品台

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其中，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。本实用新型通过在样品台的平台上开设可调节宽度的活动槽，可以在一个样品台平台上同时放置不同厚度的样品进行断面观察，节省了工作时间，提高工作效率。

基本信息

专利标题：

观察硅片样品断面的样品台

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200720144307.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2007-11-22

授权号：

CN201122096Y

授权日：

2008-09-24

发明人：

裘莺

申请人：

上海华虹NEC电子有限公司

申请人地址：

201206上海市浦东新区川桥路1188号

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：

丁纪铁

优先权：

CN200720144307.4

主分类号：

G01B11/00

IPC分类号：

G01B11/00 G01B11/24 G01B9/04 G01N13/10

IPC结构图谱

G部——物理

G01

测量；测试

G01B

长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量

G01B11/00

以采用光学方法为特征的计量设备

法律状态

2017-01-04 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101695960485
IPC(主分类) : G01B 11/00
专利号 : ZL2007201443074
申请日 : 20071122
授权公告日 : 20080924
终止日期 : 20151122

2014-01-08 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 上海华虹NEC电子有限公司
变更后权利人 : 上海华虹宏力半导体制造有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201206 上海市浦东新区川桥路1188号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
登记生效日 : 20131217
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101684921974
IPC(主分类) : G01B 11/00
专利号 : ZL2007201443074

2008-09-24 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

CN201122096Y.PDF

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